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蚀刻液
本公司专注于铜蚀刻液的技术革新,致力于不断突破技术壁垒,在确保高安全性和高铜寿命的基础上,研发出适用于小CD Bias(小线宽偏差)的铜蚀刻液,以满足精细且稳定的导线制作需求
这些铜蚀刻液产品适用于液晶面板(LCD)与集成电路(IC)制造工艺,尤其在湿蚀刻制程中,发挥着将光刻胶上的微图形精确转移到其下方的各层材料上的关键作用。
产品优势
高安全性
产品设计严格遵循工业安全标准,确保操作过程的安全无忧,大幅降低生产环境中的潜在危险。
1
/5
高铜寿命
产品能够有效延长铜蚀刻液在蚀刻过程中的使用寿命,显著减少蚀刻液更换频率,进而降低生产成本。
2
/5
持久待机
适合长时间非工作状态下的保存,完美适配批量生产线的需求。
3
/5
长保质期
产品稳定性卓越,存储期长,即使较长时间未使用,仍能保持优异性能。
4
/5
环保无氟:
蚀刻液不含氟元素,相较于传统氟化物蚀刻液,更加绿色环保,符合日益严格的环保法规要求。
5
/5
客户评价
产品品质卓越稳定
该蚀刻液品质稳定,始终保持着高质量的蚀刻效果,确保了我们生产过程中的一致性和可预测性!
生产管理高效便捷
该蚀刻液的稳定性和高安全性,有效减少了因产品品质波动引起的生产中断,显著提升了我们整体生产流程和运行管理的效率!
生产存储安全低风险
该蚀刻液不含有毒及高腐蚀性成分,使得存储与生产过程的安全风险大幅降低,为我们工厂的安全管理增添了一道坚实的防线!
成本效益显著降低
该蚀刻液寿命长且使用效率高,产线无需频繁更换,我们实现了对长期生产成本的有效控制与显著降低!
应用场景
液晶面板制造
集成电路制造
铜蚀刻液在液晶面板生产过程中扮演着关键角色。铜蚀刻液能精确蚀刻微图形,确保高精度的图形转移,进而保障显示屏的高分辨率与卓越稳定性。
铜蚀刻液在IC制造过程中至关重要。铜蚀刻液通过湿蚀刻工艺,将光刻胶上的微图形精准转移至下层材料,保证电路板导线结构的清晰度和精确度。