近日，我司自主研发的“一种用于铜钼结构的长寿命蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法”获得国家发明专利授权。该技术针对铜钼（Cu/Mo）金属叠层结构的蚀刻工艺，通过引入特定的氨基酸类有机酸螯合剂组分，旨在延长蚀刻液的单槽使用时长，并改善铜钼膜层蚀刻后的截面形貌。该专利成果为我司在显示面板蚀刻材料领域的技术积累增添了新的储备。
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